Vishay新增側邊圖形SDWP基板 為提高定製薄膜基板設計靈活性與密度
發布時間:2015-03-10 責任編輯:susan
【導讀】2015 年 3 月10 日,Vishay Intertechnology Inc.宣布,為其定製薄膜基板新增SDWP基板,這是一種側邊圖形,能使得Vishay用小的線路寬度和間隔尺寸,在基板的最多4個表麵上製造出導電圖形,可在國防、航天、醫療和電信設備裏提高設計靈活性和密度,以實現小型化。
不像采用鍍層或填孔的傳統方法,Vishay Dale Resistors Electro-Films產品線使用能在側邊和上表麵進行芯片粘結或引線鍵合的SDWPjiban。yuyinxianjianhexiangbi,cebiantuxinglianjiedediangangengdi,yincizaigaopinxiagongzuodegenghao,shidezhexieqijianfeichangshihejidianhuoguangdianyingyonglidedingzhidianlu,shepinyingyongzhongdegaopindianlu,yijigaobitelvshoufaqi(TOSA/ROSA)。薄膜器件適合芯片粘結或引線鍵合,線路寬度和間隔小於0.003英寸,公差低至±0.001英寸。
使用這種基板,設計者可以在芯片的上表麵和下表麵之間實現連續的導電圖形,把引線鍵合連到芯片側邊的印製線上,或用pin腳與芯片的側邊實現接觸。SDWP還能讓設計者把芯片安裝在基板上,在直立組裝中定位基板的位置,且引線鍵合放到變成基板“上表麵”的地方,這樣就能與產品裏的光纖、棱鏡和透鏡等光學元件實現更好的集成。
SDWP基板的鍍層厚度小於0.025英寸,最小線寬和間隔小於0.003英寸,線寬和間隔公差低至±0.001英寸。與厚膜方案相比,薄膜器件的導線寬度和間隔尺寸小2到3倍,並且尺寸公差更嚴。基板使用了多種金屬材料,包括TiW/Au/Au鍍層、TiW/Au/Ni鍍層/Au鍍層,以及Cr/Cu/Cu鍍層/Ni鍍層/Au鍍層。

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