通過輸出MOSFET的寄生二極管進行電流再生時的功耗
發布時間:2021-11-18 來源:羅姆 責任編輯:wenwei
【導讀】本文將談一談使用有刷直流電機驅動器IC進行PWM驅動時,通過輸出MOSFET的(de)寄(ji)生(sheng)二(er)極(ji)管(guan)進(jin)行(xing)電(dian)流(liu)再(zai)生(sheng)時(shi)的(de)功(gong)耗(hao)。之(zhi)所(suo)以(yi)討(tao)論(lun)這(zhe)個(ge)話(hua)題(ti),是(shi)因(yin)為(wei)再(zai)生(sheng)時(shi)的(de)實(shi)際(ji)功(gong)耗(hao)可(ke)能(neng)會(hui)大(da)於(yu)估(gu)算(suan)值(zhi),在(zai)某(mou)些(xie)情(qing)況(kuang)下(xia)可(ke)能(neng)會(hui)引(yin)發(fa)問(wen)題(ti),所(suo)以(yi)需(xu)要(yao)注(zhu)意(yi)。
通過MOSFET的寄生二極管進行電流再生時,功耗是否會大於計算值?
當通過輸出MOSFET的寄生二極管進行電流再生時,其功耗應該是寄生二極管的正向電壓×電機電流。然而實際上,有時功耗可能會大於這個計算值。
其原因是當電流流過輸出MOSFET的寄生二極管從而產生正向電壓時,MOSFET結構上固有的寄生晶體管會工作,電流從電源流向GND。這個電流小到不足流過二極管的電流的幾十分之一,但功耗是“電源電壓×電源-GND間電流”,是電源電壓較高時不可忽視的值。
下麵將從驅動器輸出MOSFET的狀態、電流的流動以及輸出MOSFET的結構角度來解釋說明這種現象。
首先來看電流再生時輸出MOSFET的狀態和再生電流的流動情況。下麵是H橋電路,但其中省略了與工作無關的MOSFET。(a)是給電機供給電流時的電路,(b)和(c)都是電流再生時的電路,但由於有兩種電路狀態,所以將(b)命名為“電流再生時1”、將(c)命名為“電流再生時2”。
(b)電流再生時1是在供給電流時將導通的Q1關閉、而Q4保持導通。在這種狀態下,電流通過關斷狀態的Q2的寄生二極管和導通狀態的Q4再生。
(c)電流再生時2是在供給電流時將導通的Q1和Q4關斷,所有MOSFET處於關斷狀態。在這種情況下,電流通過Q2和Q4的寄生二極管再生。
接下來,為了說明導致流過附加電流的寄生晶體管,給出了電機驅動器IC的輸出MOSFET的結構示意圖(截麵圖)。在上麵的電路圖中,高邊使用了Pch MOSFET,低邊使用了Nch MOSFET,所以下圖中也分別列出了它們的結構。
在輸出Nch MOSFET中,由漏極D的N型擴散層、元件分離用的P型擴散層和連接到電源的N型擴散層(在這裏是連接到輸出Pch MOSFET的源極S),可以形成寄生NPN晶體管Qa。
當再生電流流過這個Nch MOSFET的源極和漏極之間的寄生二極管Di_a時,由於元件分離P型擴散層是與GND相連接的,因此寄生NPN晶體管Qa的基極和發射極之間的二極管也會產生正向電壓。為此,寄生NPN晶體管Qa導通,流過集電極電流並從電源Ea汲取電流。
對於輸出Pch MOSFET來說,原理也相同。可以由漏極D的P型擴散層、與源極S共用的背柵N型擴散層、元件分離等的P型擴散層來形成寄生PNP晶體管Qb。
當再生電流流過該Pch MOSFET的源極和漏極之間的寄生二極管Di_b時,寄生PNP晶體管Qb導通,流過集電極電流,且電流流向GND。
當再生電流流過輸出MOSFET的寄生二極管時,電流通過寄生晶體管在電源和GND之間流動。一般來講,流過的電流比再生電流小兩個數量級左右,但會因IC所使用的工藝和MOSFET的布局而有很大差異。因此,當通過輸出MOSFET的寄生二極管使用電流再生時,需要確認通過這些寄生晶體管流過的電流大小。
例如,在“(c)電流再生時2”中,假設電源電壓Ea=24V,再生電流Io=1.0A,Nch MOSFET寄生二極管的正向電壓VF_N=0.8V,Pch MOSFET的寄生二極管正向電壓VF_P=0.95V,Nch MOSFET的寄生晶體管和Pch MOSFET的寄生晶體管的電源和GND之間流動的電流與再生電流之比都為k1=1/100,則功耗Pc如下:
在這個示例中,流經寄生晶體管的電流對功耗的影響是絕對不能忽視的。在電源電壓Ea高時需要注意。
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