STW55NM60ND:意法半導體快速恢複MOSFET產品
發布時間:2008-05-06
產品特性:
- 600V N溝道MOSFET晶體管
- 導通電阻:0.060歐姆,低損耗
- TO-247封裝
- 最大漏極電流達到51A
- 恢複時間短
應用範圍:
- 再生能源控製器
- 以能效為中心的應用環境
意法半導體推出快速恢複MOSFET晶jing體ti管guan新xin產chan品pin係xi列lie,用yong於yu包bao括kuo再zai生sheng能neng源yuan控kong製zhi器qi在zai內nei的de以yi能neng效xiao為wei中zhong心xin的de應ying用yong需xu求qiu。新xin產chan品pin在zai現xian有you產chan品pin的de基ji礎chu上shang提ti高gao了le開kai關guan性xing能neng,同tong時shi還hai使shi導dao通tong電dian阻zu實shi現xian超chao過guo18%的降幅。
STW55NM60ND是新的超結FDmesh™ II係列產品的首款產品,這是一款600V N溝道MOSFET晶體管,0.060歐姆的導通電阻在快速恢複MOSFET晶體管市場上創下最低記錄,采用工業標準的TO-247封裝。由於最大漏極電流達到51A,在對空間有嚴格要求的電信設備和服務器係統轉換器中,可以用一個MOSFET晶體管替代多個標準器件。再加上降低的損耗實現更高的熱管理效率,新產品讓設計工程師大幅度提高功率密度。
為把這些改進的性能變為現實,ST對FDmesh超結架構進行了技術改進,在傳統的帶狀MOSFET結構中融合垂直結構,同時還內置一個速度更快、可靠性更強的本征體二極管。除降低導通電阻和恢複時間外,通過降低柵電容、柵(zha)電(dian)荷(he)和(he)柵(zha)輸(shu)入(ru)電(dian)阻(zu),這(zhe)些(xie)技(ji)術(shu)改(gai)良(liang)更(geng)能(neng)提(ti)高(gao)開(kai)關(guan)效(xiao)率(lv),降(jiang)低(di)驅(qu)動(dong)損(sun)耗(hao)。在(zai)開(kai)關(guan)期(qi)間(jian)提(ti)高(gao)的(de)可(ke)靠(kao)性(xing),特(te)別(bie)是(shi)在(zai)橋(qiao)式(shi)拓(tuo)撲(pu)中(zhong),包(bao)括(kuo)在(zai)低(di)負(fu)載(zai)下(xia)的(de)零(ling)壓(ya)開(kai)關(guan)(ZVS)結構,使新產品具有很高的dv/dt值。
采用這項技術的未來產品還將提供更多的封裝選擇和電流性能,每款封裝都讓快速恢複MOSFET晶體管具有很低的導通電阻。其中,STP30NM60ND采用TO-220封裝,額定漏極電流25A,導通電阻0.13歐姆;STD11NM60ND采用DPAK貼裝封裝,漏極電流10A,導通電阻0.45歐姆;ST的FDmesh II係列產品將不斷推出新產品,以擴大電壓和電流性能的選擇範圍,後續產品將采用業內標準的功率封裝。
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