2013年12月17日，盛美半導體設備（上海）有限公司的核心清洗專利之一獲得了包括美國、日本、新加坡和中國的授權，其他核心清洗專利也在審批中。盛美擁有完整的自主知識產權，已經獲得60多個國際專利，還有100多個專利正在申請中。 

 

此次獲得授權的專利是一種用於清洗並調整半導體基材，諸如晶片的表麵的裝置
，包括可旋轉的夾盤、腔體、用於收集清洗溶液並具有一或多個排水出口的可旋轉的轉盤
、用於收集多種清洗溶液的多個接收器、用於驅動夾盤的第一電機、用於驅動轉盤第二電機。轉盤內的排水出口可置於指定接收器的正上方。由轉盤所收集的清洗溶液可導入指定的接收器中。 

 

 

圖1：  專利配圖 

 

“本裝置的一大特色就是其具有有效並可精確控製的清洗溶液循環，將交叉汙染控製到最小。”盛美半導體設備公司的創始人、首席執行官王暉博士說
，“通tong過guo遮zhe擋dang板ban位wei置zhi的de上shang升sheng和he下xia降jiang來lai控kong製zhi藥yao液ye的de回hui收shou，也ye可ke以yi通tong過guo藥yao液ye回hui收shou碟die的de旋xuan轉zhuan使shi排pai放fang口kou對dui準zhun不bu同tong的de藥yao液ye接jie受shou口kou
，實shi現xian多duo種zhong藥yao液ye的de回hui收shou分fen離li。本ben係xi統tong最zui多duo可ke以yi完wan成cheng五wu種zhong化hua學xue藥yao液ye的de回hui收shou與yu排pai放fang
，充chong分fen滿man足zu客ke戶hu複fu雜za工gong藝yi對dui多duo種zhong清qing洗xi藥yao液ye需xu求qiu的de要yao求qiu。”