中心議題：

• 蝕刻質量及先期存在的問題
• 設備調整及與腐蝕溶液的相互作用關係
• 上下板麵
  ，導入邊與後入邊蝕刻狀態不同的問題
• 蝕刻設備的維護

目前
，印刷電路板(PCB)加工的典型工藝采用"圖形電鍍法"。jixianzaibanziwaicengxubaoliudetongbobufenshang，yejiushidianludetuxingbufenshangyuduyicengqianxikangshiceng，ranhouyonghuaxuefangshijiangqiyudetongbofushidiao，chengweishike。

要注意的是，這時的板子上麵有兩層銅.在(zai)外(wai)層(ceng)蝕(shi)刻(ke)工(gong)藝(yi)中(zhong)僅(jin)僅(jin)有(you)一(yi)層(ceng)銅(tong)是(shi)必(bi)須(xu)被(bei)全(quan)部(bu)蝕(shi)刻(ke)掉(diao)的(de)
，其(qi)餘(yu)的(de)將(jiang)形(xing)成(cheng)最(zui)終(zhong)所(suo)需(xu)要(yao)的(de)電(dian)路(lu)。這(zhe)種(zhong)類(lei)型(xing)的(de)圖(tu)形(xing)電(dian)鍍(du)，其(qi)特(te)點(dian)是(shi)鍍(du)銅(tong)層(ceng)僅(jin)存(cun)在(zai)於(yu)鉛(qian)錫(xi)抗(kang)蝕(shi)層(ceng)的(de)下(xia)麵(mian)。另(ling)外(wai)一(yi)種(zhong)工(gong)藝(yi)方(fang)法(fa)是(shi)整(zheng)個(ge)板(ban)子(zi)上(shang)都(dou)鍍(du)銅(tong)，感(gan)光(guang)膜(mo)以(yi)外(wai)的(de)部(bu)分(fen)僅(jin)僅(jin)是(shi)錫(xi)或(huo)鉛(qian)錫(xi)抗(kang)蝕(shi)層(ceng)。這(zhe)種(zhong)工(gong)藝(yi)稱(cheng)為(wei)“全板鍍銅工藝“。yutuxingdianduxiangbi
，quanbandutongdezuidaquedianshibanmiangechudouyaoduliangcitongerqieshikeshihaibixudoubatamenfushidiao。yincidangdaoxianxiankuanshifenjingxishijianghuichanshengyixiliedewenti。tongshi，cefushihuiyanzhongyingxiangxiantiaodejunyunxing。

zaiyinzhibanwaicengdianludejiagonggongyizhong，haiyoulingwaiyizhongfangfa，jiushiyongganguangmodaitijinshuducengzuokangshiceng。zhezhongfangfafeichangjinsiyuneicengshikegongyi

，keyicanyueneicengzhizuogongyizhongdeshike。

目前，錫或鉛錫是最常用的抗蝕層
，用在氨性蝕刻劑的蝕刻工藝中.氨性蝕刻劑是普遍使用的化工藥液，與錫或鉛錫不發生任何化學反應。氨性蝕刻劑主要是指氨水/氯化氨蝕刻液。此外
，在市場上還可以買到氨水/硫酸氨蝕刻藥液。

yiliusuanyanweijideshikeyaoye，shiyonghou
，qizhongdetongkeyiyongdianjiedefangfafenlichulai，yincinenggouzhongfushiyong。youyutadefushisulvjiaodi，yibanzaishijishengchanzhongbuduojian，danyouwangyongzaiwulvshikezhong。yourenshiyanyongliusuan-雙氧水做蝕刻劑來腐蝕外層圖形。由於包括經濟和廢液處理方麵等許多原因，這種工藝尚未在商用的意義上被大量采用.更進一步說，硫酸-雙氧水，不能用於鉛錫抗蝕層的蝕刻，而這種工藝不是PCB外層製作中的主要方法，故決大多數人很少問津。

蝕刻質量及先期存在的問題

對dui蝕shi刻ke質zhi量liang的de基ji本ben要yao求qiu就jiu是shi能neng夠gou將jiang除chu抗kang蝕shi層ceng下xia麵mian以yi外wai的de所suo有you銅tong層ceng完wan全quan去qu除chu幹gan淨jing
，止zhi此ci而er已yi。從cong嚴yan格ge意yi義yi上shang講jiang，如ru果guo要yao精jing確que地di界jie定ding，那na麼me蝕shi刻ke質zhi量liang必bi須xu包bao括kuo導dao線xian線xian寬kuan的de一yi致zhi性xing和he側ce蝕shi程cheng度du。由you於yu目mu前qian腐fu蝕shi液ye的de固gu有you特te點dian，不bu僅jin向xiang下xia而er且qie對dui左zuo右you各ge方fang向xiang都dou產chan生sheng蝕shi刻ke作zuo用yong，所suo以yi側ce蝕shi幾ji乎hu是shi不bu可ke避bi免mian的de。

側蝕問題是蝕刻參數中經常被提出來討論的一項，它被定義為側蝕寬度與蝕刻深度之比， 稱為蝕刻因子。在印刷電路工業中
，它的變化範圍很寬泛
，從1：1到1：5。顯然，小的側蝕度或低的蝕刻因子是最令人滿意的。

蝕(shi)刻(ke)設(she)備(bei)的(de)結(jie)構(gou)及(ji)不(bu)同(tong)成(cheng)分(fen)的(de)蝕(shi)刻(ke)液(ye)都(dou)會(hui)對(dui)蝕(shi)刻(ke)因(yin)子(zi)或(huo)側(ce)蝕(shi)度(du)產(chan)生(sheng)影(ying)響(xiang)，或(huo)者(zhe)用(yong)樂(le)觀(guan)的(de)話(hua)來(lai)說(shuo)
，可(ke)以(yi)對(dui)其(qi)進(jin)行(xing)控(kong)製(zhi)。采(cai)用(yong)某(mou)些(xie)添(tian)加(jia)劑(ji)可(ke)以(yi)降(jiang)低(di)側(ce)蝕(shi)度(du)。這(zhe)些(xie)添(tian)加(jia)劑(ji)的(de)化(hua)學(xue)成(cheng)分(fen)一(yi)般(ban)屬(shu)於(yu)商(shang)業(ye)秘(mi)密(mi)，各(ge)自(zi)的(de)研(yan)製(zhi)者(zhe)是(shi)不(bu)向(xiang)外(wai)界(jie)透(tou)露(lu)的(de)。

從cong許xu多duo方fang麵mian看kan
，蝕shi刻ke質zhi量liang的de好hao壞huai，早zao在zai印yin製zhi板ban進jin入ru蝕shi刻ke機ji之zhi前qian就jiu已yi經jing存cun在zai了le。因yin為wei印yin製zhi電dian路lu加jia工gong的de各ge個ge工gong序xu或huo工gong藝yi之zhi間jian存cun在zai著zhe非fei常chang緊jin密mi的de內nei部bu聯lian係xi
，沒mei有you一yi種zhong不bu受shou其qi它ta工gong序xu影ying響xiang又you不bu影ying響xiang其qi它ta工gong藝yi的de工gong序xu。許xu多duo被bei認ren定ding是shi蝕shi刻ke質zhi量liang的de問wen題ti
，實shi際ji上shang在zai去qu膜mo甚shen至zhi更geng以yi前qian的de工gong藝yi中zhong已yi經jing存cun在zai了le。對dui外wai層ceng圖tu形xing的de蝕shi刻ke工gong藝yi來lai說shuo
，由you於yu它ta所suo體ti現xian的de“倒溪”現(xian)像(xiang)比(bi)絕(jue)大(da)多(duo)數(shu)印(yin)製(zhi)板(ban)工(gong)藝(yi)都(dou)突(tu)出(chu)，所(suo)以(yi)許(xu)多(duo)問(wen)題(ti)最(zui)後(hou)都(dou)反(fan)映(ying)在(zai)它(ta)上(shang)麵(mian)。同(tong)時(shi)，這(zhe)也(ye)是(shi)由(you)於(yu)蝕(shi)刻(ke)是(shi)自(zi)貼(tie)膜(mo)，感(gan)光(guang)開(kai)始(shi)的(de)一(yi)個(ge)長(chang)係(xi)列(lie)工(gong)藝(yi)中(zhong)的(de)最(zui)後(hou)一(yi)環(huan)
，之(zhi)後(hou)

，外(wai)層(ceng)圖(tu)形(xing)即(ji)轉(zhuan)移(yi)成(cheng)功(gong)了(le)。環(huan)節(jie)越(yue)多(duo)，出(chu)現(xian)問(wen)題(ti)的(de)可(ke)能(neng)性(xing)就(jiu)越(yue)大(da)。這(zhe)可(ke)以(yi)看(kan)成(cheng)是(shi)印(yin)製(zhi)電(dian)路(lu)生(sheng)產(chan)過(guo)程(cheng)中(zhong)的(de)一(yi)個(ge)很(hen)特(te)殊(shu)的(de)方(fang)麵(mian)。

從理論上講，印製電路進入到蝕刻階段後，在圖形電鍍法加工印製電路的工藝中，理想狀態應該是：電鍍後的銅和錫或銅和鉛錫的厚度總和不應超過耐電鍍感光膜的厚度，使電鍍圖形完全被膜兩側的“牆”dangzhubingqianzailimian。raner，xianshishengchanzhong
，quanshijiedeyinzhidianlubanzaidianduhou

，ducengtuxingdouyaodadahouyuganguangtuxing。zaidiandutongheqianxideguochengzhong，youyuducenggaoduchaoguoleganguangmo，bianchanshenghengxiangduijidequshi
，wentibianyoucichansheng。zaixiantiaoshangfangfugaizhedexihuoqianxikangshicengxiangliangceyanshen，xingchengle“沿”，把小部分感光膜蓋在了“沿”下麵。

錫或鉛錫形成的“沿”使得在去膜時無法將感光膜徹底去除幹淨，留下一小部分“殘膠”在“沿”的下麵。“殘膠”或“殘膜”留在了抗蝕劑“沿”的下麵，將造成不完全的蝕刻。線條在蝕刻後兩側形成“銅根”，銅根使線間距變窄，造成印製板不符合甲方要求，甚至可能被拒收。由於拒收便會使PCB的生產成本大大增加。

另外，在許多時候，由於反應而形成溶解，在印製電路工業中，殘膜和銅還可能在腐蝕液中形成堆積並堵在腐蝕機的噴嘴處和耐酸泵裏，不得不停機處理和清潔
，而影響了工作效率。
[page]
設備調整及與腐蝕溶液的相互作用關係

在zai印yin製zhi電dian路lu加jia工gong中zhong，氨an性xing蝕shi刻ke是shi一yi個ge較jiao為wei精jing細xi和he複fu雜za的de化hua學xue反fan應ying過guo程cheng。反fan過guo來lai說shuo它ta又you是shi一yi個ge易yi於yu進jin行xing的de工gong作zuo。一yi旦dan工gong藝yi上shang調tiao通tong，就jiu可ke以yi連lian續xu進jin行xing生sheng產chan。關guan鍵jian是shi一yi旦dan開kai機ji就jiu需xu保bao持chi連lian續xu工gong作zuo狀zhuang態tai，不bu宜yi幹gan幹gan停ting停ting。蝕shi刻ke工gong藝yi在zai極ji大da的de程cheng度du上shang依yi賴lai設she備bei的de良liang好hao工gong作zuo狀zhuang態tai。就jiu目mu前qian來lai講jiang，無wu論lun使shi用yong何he種zhong蝕shi刻ke液ye，必bi須xu使shi用yong高gao壓ya噴pen淋lin，而er且qie為wei了le獲huo得de較jiao整zheng齊qi的de線xian條tiao側ce邊bian和he高gao質zhi量liang的de蝕shi刻ke效xiao果guo

，必bi須xu嚴yan格ge選xuan擇ze噴pen嘴zui的de結jie構gou和he噴pen淋lin方fang式shi。

為(wei)得(de)到(dao)良(liang)好(hao)的(de)側(ce)麵(mian)效(xiao)果(guo)，出(chu)現(xian)了(le)許(xu)多(duo)不(bu)同(tong)的(de)理(li)論(lun)
，形(xing)成(cheng)不(bu)同(tong)的(de)設(she)計(ji)方(fang)式(shi)和(he)設(she)備(bei)結(jie)構(gou)。這(zhe)些(xie)理(li)論(lun)往(wang)往(wang)是(shi)大(da)相(xiang)徑(jing)庭(ting)的(de)。但(dan)是(shi)所(suo)有(you)有(you)關(guan)蝕(shi)刻(ke)的(de)理(li)論(lun)都(dou)承(cheng)認(ren)這(zhe)樣(yang)一(yi)條(tiao)最(zui)基(ji)本(ben)的(de)原(yuan)則(ze)，即(ji)盡(jin)量(liang)快(kuai)地(di)讓(rang)金(jin)屬(shu)表(biao)麵(mian)不(bu)斷(duan)的(de)接(jie)觸(chu)新(xin)鮮(xian)的(de)蝕(shi)刻(ke)液(ye)。對(dui)蝕(shi)刻(ke)過(guo)程(cheng)所(suo)進(jin)行(xing)的(de)化(hua)學(xue)機(ji)理(li)分(fen)析(xi)也(ye)證(zheng)實(shi)了(le)上(shang)述(shu)觀(guan)點(dian)。在(zai)氨(an)性(xing)蝕(shi)刻(ke)中(zhong)
，假(jia)定(ding)所(suo)有(you)其(qi)它(ta)參(can)數(shu)不(bu)變(bian)，那(na)麼(me)蝕(shi)刻(ke)速(su)率(lv)主(zhu)要(yao)由(you)蝕(shi)刻(ke)液(ye)中(zhong)的(de)氨(an)(NH3)來決定。因此用新鮮溶液與蝕刻表麵作用，其目的主要有兩個：一是衝掉剛剛產生的銅離子;二是不斷提供進行反應所需要的氨(NH3)。

在印製電路工業的傳統知識裏
，特別是印製電路原料的供應商們，大家公認
，氨性蝕刻液中的一價銅離子含量越低

，反應速度就越快.這已由經驗所證實。事實上
，許多的氨性蝕刻液產品都含有一價銅離子的特殊配位基(一些複雜的溶劑)，其作用是降低一價銅離子(這些即是他們的產品具有高反應能力的技術秘訣 )
，可見一價銅離子的影響是不小的。將一價銅由5000ppm降至50ppm，蝕刻速率會提高一倍以上。

由(you)於(yu)蝕(shi)刻(ke)反(fan)應(ying)過(guo)程(cheng)中(zhong)生(sheng)成(cheng)大(da)量(liang)的(de)一(yi)價(jia)銅(tong)離(li)子(zi)，又(you)由(you)於(yu)一(yi)價(jia)銅(tong)離(li)子(zi)總(zong)是(shi)與(yu)氨(an)的(de)絡(luo)合(he)基(ji)緊(jin)緊(jin)的(de)結(jie)合(he)在(zai)一(yi)起(qi)，所(suo)以(yi)保(bao)持(chi)其(qi)含(han)量(liang)近(jin)於(yu)零(ling)是(shi)十(shi)分(fen)困(kun)難(nan)的(de)。通(tong)過(guo)大(da)氣(qi)中(zhong)氧(yang)的(de)作(zuo)用(yong)將(jiang)一(yi)價(jia)銅(tong)轉(zhuan)換(huan)成(cheng)二(er)價(jia)銅(tong)可(ke)以(yi)去(qu)除(chu)一(yi)價(jia)銅(tong)。用(yong)噴(pen)淋(lin)的(de)方(fang)式(shi)可(ke)以(yi)達(da)到(dao)上(shang)述(shu)目(mu)的(de)。

這就是要將空氣通入蝕刻箱的一個功能性的原因。但是如果空氣太多
，又會加速溶液中的氨損失而使PHzhixiajiang
，qijieguorengshishikesulvjiangdi。anzairongyezhongyeshixuyaojiayikongzhidebianhualiang。yixieyonghucaiyongjiangchunantongrushikechuyecaodezuofa。zheyangzuobixujiayitaoPH計控製係統。當自動測得的PH結果低於給定值時，溶液便會自動進行添加。

在與此相關的化學蝕刻(亦稱之為光化學蝕刻或PCH)領域中
，研究工作已經開始，並達到了蝕刻機結構設計的階段。在這種方法中，所使用的溶液為二價銅，不是氨-銅蝕刻。它將有可能被用在印製電路工業中。在PCH工業中，蝕刻銅箔的典型厚度為5到10密耳(mils)
，有些情況下厚度則相當大。它對蝕刻參量的要求經常比PCB工業中的更為苛刻。

有一項來自PCMgongyexitongzhongdeyanjiuchengguo
，muqianshangweizhengshifabiao，danqijieguojiangshilingrenermuyixinde。youyuyoujiaoxionghoudexiangmujijinzhichi，yinciyanjiurenyuanyounenglicongchangyuanyiyishangduishikezhuangzhideshejisixiangjinxinggaibian，tongshiyanjiuzhexiegaibiansuochanshengdexiaoguo。biru
，yuzhuixingpenzuixiangbi
，zuijiadepenzuishejicaiyongshanxing
，bingqiepenlinjiliuqiang(即噴嘴擰進去的那段管子)也有一個安裝角度

，能對進入蝕刻艙中工件呈30度噴射.ruguobujinxingzheyangdegaibian
，namejiliuqiangshangpenzuideanzhuangfangshihuidaozhimeigexianglinpenzuidepenshejiaodudoubushiwanquanyizhide。dierzupenzuigezidepenlinmianyudiyizuxiangduiyingdelveyoubutong(它表示了噴淋的工作情況)。zheyangshipenshechuderongyexingzhuangchengweidiejiahuojiaochadezhuangtai。conglilunshangjiang，ruguorongyexingzhuangxianghujiaocha

，namegaibufendepenshelijiuhuijiangdi，bunengyouxiaodijiangshikebiaomianshangdejiurongyechongdiaoerbaochixinrongyeyuqijiechu。zaipenlinmiandebianyuanchu
，zhezhongqingkuangyouqituchu。qipenshelibichuizhifangxiangdeyaoxiaodeduo。

這項研究發現
，最新的設計參數是65磅/平方英寸(即4+Bar)。每個蝕刻過程和每種實用的溶液都有一個最佳的噴射壓力的問題
，而就目前來講
，蝕刻艙內噴射壓力達到30磅/平方英寸(2Bar)以上的情況微乎其微。有一個原則，即一種蝕刻溶液的密度(即比重或玻美度)越高

，最佳的噴射壓力也應越高。當然這不是單一的參數。另一個重要的參數是在溶液中控製其反應率的相對淌度(或遷移率)。

關於上下板麵，導入邊與後入邊蝕刻狀態不同的問題

大da量liang的de涉she及ji蝕shi刻ke質zhi量liang方fang麵mian的de問wen題ti都dou集ji中zhong在zai上shang板ban麵mian上shang被bei蝕shi刻ke的de部bu分fen。了le解jie這zhe一yi點dian是shi十shi分fen重zhong要yao的de。這zhe些xie問wen題ti來lai自zi印yin製zhi電dian路lu板ban的de上shang板ban麵mian蝕shi刻ke劑ji所suo產chan生sheng的de膠jiao狀zhuang板ban結jie物wu的de影ying響xiang。膠jiao狀zhuang板ban結jie物wu堆dui積ji在zai銅tong表biao麵mian上shang，一yi方fang麵mian影ying響xiang了le噴pen射she力li，另ling一yi方fang麵mian阻zu擋dang了le新xin鮮xian蝕shi刻ke液ye的de補bu充chong，造zao成cheng了le蝕shi刻ke速su度du的de降jiang低di。正zheng是shi由you於yu膠jiao狀zhuang板ban結jie物wu的de形xing成cheng和he堆dui積ji使shi得de板ban子zi的de上shang下xia麵mian圖tu形xing的de蝕shi刻ke程cheng度du不bu同tong。這zhe也ye使shi得de在zai蝕shi刻ke機ji中zhong板ban子zi先xian進jin入ru的de部bu分fen容rong易yi蝕shi刻ke的de徹che底di或huo容rong易yi造zao成cheng過guo腐fu蝕shi

，因yin為wei那na時shi堆dui積ji尚shang未wei形xing成cheng，蝕shi刻ke速su度du較jiao快kuai。反fan之zhi，板ban子zi後hou進jin入ru的de部bu分fen進jin入ru時shi堆dui積ji已yi形xing成cheng，並bing減jian慢man其qi蝕shi刻ke速su度du。

蝕刻設備的維護

蝕(shi)刻(ke)設(she)備(bei)維(wei)護(hu)的(de)最(zui)關(guan)鍵(jian)因(yin)素(su)就(jiu)是(shi)要(yao)保(bao)證(zheng)噴(pen)嘴(zui)的(de)清(qing)潔(jie)
，無(wu)阻(zu)塞(sai)物(wu)而(er)使(shi)噴(pen)射(she)通(tong)暢(chang)。阻(zu)塞(sai)物(wu)或(huo)結(jie)渣(zha)會(hui)在(zai)噴(pen)射(she)壓(ya)力(li)作(zuo)用(yong)下(xia)衝(chong)擊(ji)版(ban)麵(mian)。假(jia)如(ru)噴(pen)嘴(zui)不(bu)潔(jie)，那(na)麼(me)會(hui)造(zao)成(cheng)蝕(shi)刻(ke)不(bu)均(jun)勻(yun)而(er)使(shi)整(zheng)塊(kuai)PCB報廢。

明ming顯xian地di，設she備bei的de維wei護hu就jiu是shi更geng換huan破po損sun件jian和he磨mo損sun件jian，包bao括kuo更geng換huan噴pen嘴zui，噴pen嘴zui同tong樣yang存cun在zai磨mo損sun的de問wen題ti。除chu此ci之zhi外wai
，更geng為wei關guan鍵jian的de問wen題ti是shi保bao持chi蝕shi刻ke機ji不bu存cun在zai結jie渣zha，在zai許xu多duo情qing況kuang下xia都dou會hui出chu現xian結jie渣zha堆dui積ji.結jie渣zha堆dui積ji過guo多duo，甚shen至zhi會hui對dui蝕shi刻ke液ye的de化hua學xue平ping衡heng產chan生sheng影ying響xiang。同tong樣yang，如ru果guo蝕shi刻ke液ye出chu現xian過guo量liang的de化hua學xue不bu平ping衡heng，結jie渣zha就jiu會hui愈yu加jia嚴yan重zhong。結jie渣zha堆dui積ji的de問wen題ti怎zen麼me強qiang調tiao都dou不bu過guo分fen。一yi旦dan蝕shi刻ke液ye突tu然ran出chu現xian大da量liang結jie渣zha的de情qing況kuang，通tong常chang是shi一yi個ge信xin號hao，即ji溶rong液ye的de平ping衡heng出chu現xian問wen題ti。這zhe就jiu應ying該gai用yong較jiao強qiang的de鹽yan酸suan作zuo適shi當dang地di清qing潔jie或huo對dui溶rong液ye進jin行xing補bu加jia。

殘(can)膜(mo)也(ye)可(ke)以(yi)產(chan)生(sheng)結(jie)渣(zha)物(wu)，極(ji)少(shao)量(liang)的(de)殘(can)膜(mo)溶(rong)於(yu)蝕(shi)刻(ke)液(ye)中(zhong)

，然(ran)後(hou)形(xing)成(cheng)銅(tong)鹽(yan)沉(chen)澱(dian)。殘(can)膜(mo)所(suo)形(xing)成(cheng)的(de)結(jie)渣(zha)說(shuo)明(ming)前(qian)道(dao)去(qu)膜(mo)工(gong)序(xu)不(bu)徹(che)底(di)。去(qu)膜(mo)不(bu)良(liang)往(wang)往(wang)是(shi)邊(bian)緣(yuan)膜(mo)與(yu)過(guo)電(dian)鍍(du)共(gong)同(tong)造(zao)成(cheng)的(de)結(jie)果(guo)。