產品特性：

• 新晶體管能夠將處理器的功耗降低至當前處理器產品的10％
• 新晶體管基於的是矽基，使用了一種名為III-V的化合物半導體
• 工作核心電壓將隻有當前處理器的50％，功耗隻有當前晶體管的10％

應用範圍：

• 處理器
• 顯卡以及其他高集成度設備

據報道， Intel公司新推出一種名為“P-channel”和“N-channel”的晶體管能夠將處理器的功耗降低至當前處理器產品的10％。Intel公司於日前公布了新材料“P-channel”晶體管的更多細節，新晶體管基於的是矽基，使用了一種名為III-V的化合物半導體。大約在一年之前Intel公司就對外描述過基於III-V 材料的“P-channel”晶體管，當時同樣基於的是矽基。

根據Intel公司的介紹當同時使用N-channel 和P-channel 兩種材料之後就可以製造 CMOS電路塊。並且擁有製造未來處理器產品的潛力。值得一提的就是基於新材料的處理器功耗將非常低，工作核心電壓將隻有當前處理器的50％，功耗隻有當前晶體管的10％。

如果這項創新能夠在處理器產品上得到應用


，那麼這將會為我們帶來體積更小
、功耗更低、性能更加強大的處理器。很顯然的是新材料將來還可以應用在顯卡以及其他高集成度設備上。

目前，Intel公司正在著力研究新材料的實用化。