盡可能地降低 SiC FET 的電磁幹擾和開關損耗
發布時間:2023-06-29 來源:Qorvo 責任編輯:wenwei
【導讀】ninruhezaitigaokaiguansuduhezengjiashejifuzaduzhijianxunqiupingheng?benbokewenzhangjiangtaoluncileiquanhengkaoliang,bingtigongleyizhonggenggaoxiaodefangfa,youzhuyuninkefushejitiaozhanbingchongfenfahui SiC 器件潛力。
這篇博客文章最初由 United Silicon Carbide (UnitedSiC) 發布,該公司於 2021 年 11 月加入 Qorvo 大家庭。UnitedSiC 是一家領先的碳化矽 (SiC) 功率半導體製造商,它的加入促使 Qorvo 將業務擴展到電動汽車 (EV)、工業電源、電路保護、可再生能源和數據中心電源等快速增長的市場。
隨著人們對高效率、高功率密度和係統簡單性的需求不斷增長,碳化矽 (SiC) FET 因其較快的開關速度、較低的 RDS(on) 和較高的額定電壓,逐漸成為對電力工程師極具吸引力的選擇。
但是,SiC 器件較快的開關速度會導致更高的 VDS 尖峰和更長的振鈴持續時間,從而在高電流電平下引入了更多的 EMI。對(dui)於(yu)從(cong)事(shi)電(dian)動(dong)汽(qi)車(che)和(he)可(ke)再(zai)生(sheng)能(neng)源(yuan)等(deng)高(gao)功(gong)率(lv)應(ying)用(yong)的(de)工(gong)程(cheng)師(shi)來(lai)說(shuo),如(ru)何(he)在(zai)提(ti)高(gao)效(xiao)率(lv)並(bing)充(chong)分(fen)發(fa)揮(hui)先(xian)進(jin)技(ji)術(shu)潛(qian)力(li)的(de)同(tong)時(shi),避(bi)免(mian)過(guo)於(yu)複(fu)雜(za)的(de)設(she)計(ji)將(jiang)會(hui)是(shi)一(yi)大(da)難(nan)題(ti)。
什麼是 VDS 尖峰和振鈴?
寄生電感是導致 VDS 尖峰和振鈴的根本原因。從 SiC MOSFET 的典型關斷波形(圖 1)可以看出,柵極-源極電壓 (VGS) 在 18V 至 0V 之間,關斷的漏極電流 (ID) 為 50A,且總線電壓 (VDS) 為 800V。由於 SiC MOSFET 具有更快的開關速度,所以會出現較高的 VDS 尖峰和較長的振鈴持續時間。較高的 VDS 尖峰會減少器件應對閃電和負載突變等條件導致的電壓問題的裕量。較長的振鈴持續時間也會引入更多的 EMI。這種現象在高電流電平下更加明顯。
圖 1:SiC 器件的較快開關速度所導致的關斷 VDS 尖峰和振鈴
傳統方法
抑製EMI 的常規解決方案就是使用高柵極電阻 (RG) 來降低電流變化率 (dI/dt)。但實際上,使用高 RG 會顯著增加開關損耗,進而損失效率,所以在使用這種方法時,我們不得不在效率和 EMI 之間做出取舍。
另一種解決方案是減少電源回路中的雜散電感。但是,這需要重新設計PCB 布局,並需要使用尺寸更小、電感更低的封裝。此外,PCB 上shang能neng夠gou減jian小xiao的de電dian源yuan回hui路lu麵mian積ji是shi有you限xian的de,而er且qie也ye需xu要yao遵zun守shou相xiang關guan安an全quan法fa規gui規gui定ding的de最zui小xiao間jian距ju和he最zui小xiao間jian隙xi。此ci外wai,更geng小xiao巧qiao的de封feng裝zhuang還hai會hui導dao致zhi熱re性xing能neng降jiang低di。
我們還需要考慮濾波器,以幫助我們滿足EMI 要求並簡化係統權衡。除此之外,我們還可以使用控製方法來減少 EMI。例如,頻率抖動技術可通過擴展電源的噪聲頻譜範圍來減少 EMI。
新方法
一個簡單的 RC 緩衝電路可以幫助克服設計挑戰並充分發揮 SiC 器件的潛力,是一種更為高效的解決方案。事實證明,這個簡單的解決方案可以在廣泛的負載範圍內更高效地控製 VDS 尖峰並縮短振鈴持續時間,並實現可以忽略的關斷延遲。
得益於更快速的 dv/dt 和額外的 Cs,緩衝電路還具有更高的位移電流,從而可以減少關斷過渡期間的 ID 和 VDS 重疊。
可以通過雙脈衝測試 (DPT) 來證明緩衝電路的有效性。該測試采用了帶感性負載的半橋配置。高端和低端都使用相同的器件,VGS、VDS 和 ID 均從低端器件測量(圖 2)。
圖 2:半橋配置(頂部和底部使用相同的器件)
使用電流互感器 (CT) 測量器件和緩衝電路的電流。因此,測得的開關損耗包括器件開關損耗和緩衝電路損耗。
其中的緩衝電路由 SiC MOSFET 漏極和源極之間的一個 10Ω 電阻和一個 200pF 電容串聯組成。
圖 3:RC 緩衝電路可更有效地控製關斷 EMI
首先,我們比較關斷時的情況(圖3)。測試的設備對象與圖 1 相同。左側波形使用 RC 緩衝電路和低 RG(off),而右側波形則使用高 RG(off),未使用緩衝電路。這兩種方法都可以限製關斷 VDS 峰值電壓。但是,使用緩衝電路之後,隻需 33ns 即可抑製振鈴,而高 RG(off) 的振鈴持續時間仍超過 100ns。與使用高 RG(off) 相比,使用緩衝電路時的延遲時間更短。由此可判斷,緩衝電路有助於在關斷時更有效地控製 VDS 關斷尖峰和振鈴持續時間。
圖 4:RC 緩衝電路在導通期間的有效性
在導通時(圖4),將使用 RC 緩衝電路和 5Ω RG(on) 的波形與未使用緩衝電路的波形進行比較可以發現,使用緩衝電路時,反向恢複電流峰值 (Irr) 略有提高,從 94A 提高到了 97A,除此之外,其對導通波形的影響可以忽略不計。
這表明,與高 RG(off) 相比,緩衝電路有助於更有效地控製 VDS 尖峰和振鈴持續時間。但緩衝電路能否更高效呢?(圖 5)
圖 5:比較緩衝電路與高 RG(off) 之間的開關損耗(Eoff、Eon)
在 48A 時,高 RG(off) 的關斷開關損耗是使用緩衝電路和低 RG(off) 時的兩倍以上。由此證明,緩衝電路在關斷時更高效。因為緩衝電路可實現更快速的開關,同時還可以更好地控製 VDS 尖峰和振鈴。
從導通開關損耗的角度看,使用緩衝電路時,Eon 平均增加了 70µJ。為了充分估計整體效率,我們需要將 Eoff 和 Eon 相加,然後比較 Etotal(圖 6)。在全速開關器件時,可以很明顯地看出緩衝電路在漏級電流為 18A 以上時效率更高。對於在 40A/40kHz 下開關的 40mΩ 器件,在使用高 RG(off) 與使用低 RG(off) 和緩衝電路之間,每個器件的開關損耗差為 11W。
圖 6:比較緩衝電路與高 RG(off) 之間的開關損耗 (Etotal)
因此我們可以推斷,與使用高 RG(off) 相比,使用緩衝電路是一種更高效的解決方案。
隨著第 4 代 SiC 器件進入市場,這種簡單的設計解決方案將繼續提供更低的總開關損耗,繼續幫助優化係統功率效率。
關於簡單的緩衝電路如何在 UnitedSiC SiC 器件中實現出色效率的更多信息,請觀看我們近期的研討會:盡可能地降低 SiC FET 的電磁幹擾和開關損耗。
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