高功率鍍膜新突破!瑞典Ionautics HiPSTER 25電源首次運行
發布時間:2025-06-13 來源:投稿 責任編輯:admin
近日,瑞典 Ionautics 公司宣布其全新研發的 HiPSTER 25 緊湊型高性能高功率脈衝磁控濺射(HiPIMS)脈衝電源成功完成首次運行。Ionautics 成立於 2010 年,長期深耕於電離物理氣相沉積領域, HiPSTER 25提供高達 25kW 功率,不僅重新定義了行業高效運行模式,還極大提升了性能與能量效率。其采用的碳化矽(SiC)晶體管成為一大亮點。SiC 作為新型半導體材料,具備耐高溫、gaopinlvtexingyijizhuoyuedaodianxingneng。xiangjiaoyuchuantongguijicailiao,tanenggouchengshougenggaogongzuowendu,yongyougengkuaikaiguansudu,zhedafutishenglenengliangxiaolvyugongyiwendingxing,youxiaojianshaolenengliangsunshihereguanlinanti,tigonglinghuoqiewendingdedumoguocheng,youliquebaoledumozhiliangdeyizhixing 。
HiPSTER 25 雙極模式
HiPSTER 25搭載的雙極HiPIMS技術,無需基底偏壓即可實現離子加速,簡jian化hua工gong藝yi步bu驟zhou,提ti升sheng鍍du膜mo質zhi量liang與yu均jun勻yun性xing。通tong過guo精jing確que調tiao控kong離li子zi能neng量liang和he方fang向xiang,它ta能neng在zai各ge類lei基ji材cai上shang形xing成cheng光guang滑hua致zhi密mi的de塗tu層ceng,顯xian著zhu增zeng強qiang產chan品pin耐nai磨mo性xing、耐腐蝕性和光學性能。此外,該設備集成豐富的工藝參數調整選項,用戶可按需精細調節氣體流量、放電電壓和脈衝頻率等,無論是硬質塗層、光學鍍膜還是電氣塗層,都能實現良好效果。其外部觸發多個電源的功能,更為複雜的多層鍍膜和複合結構鍍膜創造了可能。
新型開關技術的應用,讓 HiPSTER 25的HiPIMS脈衝頻率達到150kHz,高gao頻pin脈mai衝chong不bu僅jin提ti升sheng鍍du膜mo效xiao率lv,還hai能neng促cu進jin薄bo膜mo均jun勻yun致zhi密mi沉chen積ji,尤you其qi在zai處chu理li複fu雜za三san維wei結jie構gou時shi優you勢shi顯xian著zhu。增zeng強qiang的de脈mai衝chong控kong製zhi功gong能neng,可ke精jing準zhun調tiao節jie脈mai衝chong形xing狀zhuang、寬度和能量分布,成為研發新型材料和優化現有工藝的得力工具。
HiPSTER 25 優勢
為進一步保障鍍膜質量,HiPSTER 25集成了Ionautics的反應過程控製係統。該gai係xi統tong實shi時shi監jian測ce和he調tiao節jie鍍du膜mo化hua學xue反fan應ying,精jing確que控kong製zhi鍍du膜mo成cheng分fen與yu結jie構gou,減jian少shao缺que陷xian和he雜za質zhi,提ti升sheng鍍du膜mo穩wen定ding性xing和he沉chen積ji率lv。經jing過guo廣guang泛fan測ce試shi和he優you化hua,HiPSTER 25在反應式 HiPIMS 及其他各類磁控管工藝中均表現優異。
從具體性能參數來看,HiPSTER 25輸出平均功率小於 25KW,支持電壓、電流、功率等多種調節模式,脈衝電流電弧控製反應時間小於2μs;輸入電壓靈活適配100-240VAC,支持RS 232、RS 485等多種遠程通信方式。無論是單極模式下的高電壓大電流輸出,還是可選的雙極模式和脈衝模式直流,都能滿足多樣化的工藝需求。
廣泛應用範圍
HiPSTER 25的應用場景廣泛。在擴散屏障和電氣塗層製備中,它能增加塗層密度,提升擴散屏障阻隔性能,防止材料相互滲透;通過優化塗層厚度和熱負荷,提高導電材料導電性與絕緣體隔離效果,為電子封裝和電力傳輸提供高效方案。在航空航天、醫療器械和汽車製造等對三維塗層要求嚴苛的行業,HiPSTER 25憑借出色的鍍膜均勻性,可在複雜形狀基材上實現薄膜均勻覆蓋,助力高端製造升級。
瑞典Ionautics以推動行業進步為使命,未來,我們將繼續深耕HiPIMS技術領域,以HiPSTER 25為新起點,持續優化產品性能,拓展應用邊界。同時,我們希望通過HiPSTER 25搭建與全球客戶緊密合作的橋梁,共同探索離子鍍膜技術。
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